°øÁö»çÇ×
°¶·¯¸®°Ô½ÃÆÇ
±×¸°¸¶Æ®
ÀÚ·á½Ç
»ç³»°Ô½ÃÆÇ
ÀÚÀ¯°Ô½ÃÆÇ
¿Â¶óÀι®ÀÇ
home > Ä¿¹Â´ÏƼ > ÀÚ·á½Ç
ABP-3KÀÇ °æ¿ì ¹ÝµµÃ¼ °øÁ¤¿ë Chiller¿¡ Àû¿ëµÇ´Â ¿ëµµ·Î °³¹ß, Á¦À۵ǾúÀ¸¸ç, ƯÈ÷ Etch process Chamber¿¡¼ Wafer°¡ ¾ÈÂøµÇ´Â ESC(Á¤Àüô)ÀÇ ³Ã°¢ ¹× °¡¿À» ´ã´çÇÏ´Â ¿Âµµ º¯È¯ ¸ðµâ·Î »ç¿ëµË´Ï´Ù. ±âÁ¸ÀÇ ³Ã¸Å¸¦ »ç¿ëÇϴ ĥ·¯¿¡¼ ³Ã¸Å ¾ÐÃà±â¸¦ »ç¿ëÇÑ ³Ã°¢°ú È÷Å͸¦ »ç¿ëÇÑ °¡¿ ±â´ÉÀ» 1°³ÀÇ ABP ¸ðµâ·Î ´ëüÇÏ¿© »ç¿ëÇÏ°Ô µË´Ï´Ù. Process Chamber °¡µ¿ ½Ã ¿Ü¶õ(¿¹ß»ý ¿äÀÎ : RF power, Gas ¹ÝÀÀ, ESC¿¡ ³»ÀåµÈ Tunable heater µî)ÀÇ Å©±â¿¡ µû¶ó ABP-3K ¸ðµâÀ» 1~5°³ Àû¿ëÇÏ¿© ÀÚÀ¯·Ó°Ô ±¸¼ºÇÒ ¼ö ÀÖ½À´Ï´Ù.¾Æ·¡ÀÇ ±×¸²Àº ABP-3KÀÇ ±¸µ¿Á¶°Ç ÇÏ¿¡¼ ¼º´É°ËÁõÀ» Çϱâ À§ÇÑ ±âº»ÀûÀÎ P&ID ÀÔ´Ï´Ù.